近些年来，半导体行业的发展引起了各界的广泛关注，特别是在光刻技术的应用上。不得不提的是，光刻机在芯片制造中扮演着至关重要的角色，而中国在这方面的拼搏与成长，展现了国家在科技领域的决心与潜力。

想想在过去的两年里，中国共采购了115台ASML的浸润式DUV光刻机，这在业界无疑是一个响亮的信号。众所周知，芯片工艺层次分明，如何选择合适的光刻机，便成了枢纽。以普通的干式DUV光刻机为例，最多支持65nm的芯片制程，高级一些的浸润式DUV光刻机则可以支持到7nm，而EUV光刻机的到来，更是让7nm以下的芯片制造变得可行。然而，中国的光刻技术依然停留在ArF光刻机的阶段，因此不得不依靠入口，尤其是ASML的设备。

在这个过程中，很多人对海内光刻机的供给表示了担忧，尤其是美国对光刻机出口的禁令。那么，中国的浸润式DUV光刻机真的是短缺的吗？谜底显然是否定的。实际上，从两年前开始，中国就已经意识到需要为未来的出产做好预备，而这段时间恰是我们不断向ASML购买光刻机的努力过程。

数据不会撒谎，从ASML的财报中可以看到，自2023年初开始，中国的购买量开始快速上升。仅在2022年，中国就入口了25台，这一数字在2023年猛增至62台，而在2024年的前两个季度又有42台落到海内。而在这近两年里，总共花费了超过80亿欧元。这些光刻机的威力可见一斑，以每小时可处理250多块12寸晶圆的效率来计算，115台的总产能相当于几十个中芯国际的能力，未来数年绝对能够满意产量的增长需求。

然而，事情到此并不会就此结束。固然我们在ArFi光刻机上贮备丰厚，但若想在全球半导体战场上占据更为有利的地位，还需要尽快攻克EUV光刻机的技术壁垒。一旦我们把握了这项技术，那时候美国的禁令无疑会化作一纸空文。试问，莫非我们要始终依附于他国的技术吗？谜底显然不应该如斯。未来的路需要踏踏实实走好，而每一步、每一次尝试，都将在这个技术临界点上，书写历史新篇。

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