近日，媒体报道称，日本也正式跟随美国，开始对芯片设备进行限制了。

按照媒体的报道称，日本将对23种半导体设备进行限制，而这23种设备，涉及到3项清洗设备、11项薄膜沉积设备、1项热处理设备、4项光刻设备、3项刻蚀设备、1项测试设备。

日本称，这不是特意针对中国，也不是跟随美国，他针对的是全世界，所有国家和地区都会限制，只要是非同盟国、友好国家，需要出口这些相关半导体设备时，就需要单独申请、获得政府的许可。

但很明显，真正受影响的，还是中国、俄罗斯这样的非日本同盟国的国家和地区，日本不可能限制美国、欧盟等地区的设备进口。

很多人表示，目前国内的半导体设备、材料等非常依赖美国、日本、荷兰等地，现在美国限制、日本限制、荷兰也限制，那么对中国芯片产业会是一个巨大的打击。

还有人表示，国内目前采用全国产设备、技术来生产芯片，可能只有90nm，所以有些网友表示，那岂不是接下来，国产芯片工艺，可能会退回到90nm？

要我说，这就有点杞人忧天了，退回到90nm是不可能的，真正受影响的，只是14nm以下的先进工艺，成熟工艺不受影响。

按照半导体的制程，有媒体对日本限制的这23个品种（实际上是30类，不仅包含设备，还包含半导体制程中的护膜（Pellicle）类）进行分析。

可以很明显的看到，主要针对的还是EUV技术，以及14nm以下的工艺，购买这些先进设备需要许可证，至于14nm以上的工艺，并不会受到影响，这些设备的购买，不需要许可证。

而荷兰ASML的光刻机限制，其实也是差不多的，TWINSCANNXT：2000i及之后的浸没式光刻系统不能出口，而之前的还是能够出口，比如TWINSCANNXT:1980Di这种浸润式光刻机，是可以出口的，而它能够支持到14nm工艺的。

所以，大家别人云亦云，听风就是雨，完全没有要回退到90nm这回事，另外就算我们全部采用国产设备/技术/技术，也不会是90nm。

但不可否认的是，日本也加入限制后，对于我们向14nm以下工艺的进发，还是很受影响的，这个限制带来的影响值得我们高度重视。

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