台积电不购新EUV光刻机，ASML面临末路？

自光刻工艺被应用于晶片产业之后，光刻已成为一项必不可少的装置。

在光刻技术步入浸入式时代之后，ASML台积电抓住机会，投入巨资投入，强势崛起，而尼康和佳能则被甩在后面，成为名副其实的霸主。

目前ASML公司已经占据了浸入式光刻和极紫外光刻市场的90%以上的市场份额。

ASML一直在研发它的机械，从一代浸入到二代，再到三代。

在超紫外光刻中，常规超紫外光刻，初代超紫外光刻，小数字孔径NA=0.33，大数字孔径超紫外光刻（NA=0.55)，大数字孔径超紫外光刻（NA=0.55）。

于是，跟着ASML公司的步伐，一代一代地进行着更新换代，从7nm、5nm、3nm向更高层次发展，终极实现了一次又一次的更新换代。

只要技术不提高，我们就会追随ASML的脚步，坚持28nm、14nm、xxnm，坚持自己的原则。

然而，当ASML公司发布了高数值孔径（NA=0.55)EXE:5200（也叫高NAEUV光刻机）的时候，大家才发现情况不对，由于ASML声称这款光刻机只适合2nm或更初级别的制程。

因为这台光刻机价格不菲，耗资3.5亿欧元，相当于一辆双层大巴大小，150吨，15,000kg,ASML公司要派出250名工程师在6个月内完成安装工作。

采购这样的光刻机，本钱很高，就拿台积电来说，假如用目前的100台以上的EUV光刻机，替代下来的话，总花费在3000亿美金左右。

台积电也承受不住这样的压力，台积电已经决定，不再购买EUV光刻机，而是对现有的NA=0.33的光刻机进行了进级。

台积电相信，即便使用老版的微影制程，即便良率略差一些，即便制程轻微复杂一些，也能达到2纳米乃至2纳米的水准，没必要花几千亿美金换一种新型EUV光刻制程。

而一旦台积电不接受，那么ASML将面临/"穷途末路/"，究竟台积电曾经是最大的顾客，若台积电不允许，英特尔和三星的订单，又有谁愿意出钱？假如台积电不收购台积电，那么他们肯定会效仿。

像DUV等成熟制程的光刻机，本钱并不高，但竞争也很激烈，独一没有跟EUV竞争的，就是ASML。

现在的ASML，可以说是深陷/"工艺陷阱/"，迈不过去，就是穷途末路，未来一片迷茫，芯片制程已经接近物理极限，EUV光刻又被卡住，再多一点，大家都愿意出高价进级。

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